1纳米工艺处理器有多大?

时间:2019-08-29 来源:365bet手机最新网址 作者:英国365bet娱乐城
光刻是半导体制造工艺中最复杂和最困难的步骤,这就是光刻机是最重要的半导体制造设备的原因。
台积电在7纳米工艺竞赛中领先的最重要原因之一是EUV技术,其占半导体制造成本的约33%。
目前最先进的光刻机是ASML的EUV光刻机,售价超过1亿美元并且很少见。
ASML的主要客户是世界上第一线工厂。除了三大英特尔巨头三星和台积电之外,SMIC也是一个ASML客户端。
据外媒报道,ASML正在积极投资开发新一代EUV光刻设备。
与上一代相比,新型EUV光刻机的最大变化是高数值孔径镜头。随着镜头规格的增加,新一代光刻设备中两个主要光刻设备的中心指数增加了70%,满足了几何芯片小型化的行业要求。
ASML宣布新型EUV光刻机于2024年开始量产,但最新报告显示,下一代EUV光刻机于2025年大规模生产。此时,台积电和三星已经开始生产3纳米质量工艺,甚至产生2纳米,1纳米的影响。
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